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ホーム > 事業紹介 > 主要技術 > 光デバイス実装技術 > 導波路形成技術

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主要技術

ISO14001認証
JQA-E-90066D

ISO9001認証
JQA-2222

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導波路形成技術

常圧CVDによる導波路形成

CVD：Chemical Vaper Deposition
AWG：Arrayed Waveguide Grating

導波路上のＶ溝実用化

【常圧CVDによる導波路形成技術】

低温プロセス（400℃）で生成
高精度成膜が可能
大口径化に優位→現在５インチ、８インチまで可能（従来技術：火炎堆積法では４インチ）
導波路上のＶ溝実用化は世界初

製品例

AWGモジュール

基幹系、メトロ系WDM（波長多重）装置のキー部品です。

⇒関連情報（NECサイト内）

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